熱處理爐過程分析系統(tǒng)

衛(wèi)生陶瓷噴釉柜的除塵系統(tǒng)衛(wèi)生陶瓷噴釉柜除塵系統(tǒng)的設置，都是單臺噴釉柜碉立設置一除塵系統(tǒng)，這樣便于不同的釉料分別回收利用。衛(wèi)生陶瓷噴釉柜的除塵系統(tǒng)。目前多采用濕式除塵器，如水浴除塵器。

熱處理爐過程分析系統(tǒng) 輔助材料制備加工過程廢氣的治理技術

1)匣缽制備過程廢氣的治理匣缽制備過程中，坯料加工、成型和燒成各個環(huán)節(jié)干產(chǎn)生含塵廢氣。但由于半干壓成型粉料的顆粒較粗，含水較高，產(chǎn)量小，故大多企業(yè)未采取廢氣控制措施。匣缽原料用顎式破碎機粗碎和輪碾機的粉碎時，產(chǎn)生大量的含塵廢氣。此污染源應設置密閉抽風凈化系統(tǒng)。粉料篩分時，也產(chǎn)生含塵廢氣。應對篩子進行整體密閉并設置局部排風罩及除塵設備，除塵可采用干法或濕法，如袋式除塵器或水浴除塵器。

(2)半水石膏制備過程含塵廢氣治理①原料準備粉塵治理治理用顎式破碎機粗碎大塊天然石膏時產(chǎn)生的粉塵，應在顎式破碎機加料口處設置外部吸塵罩，所集的含塵廢氣可單獨集氣處理，也可以和雷蒙磨尾氣共用一個除塵系統(tǒng)。除塵設備可用袋式除塵器。

②半水石膏制備粉塵治理半水石膏制備時產(chǎn)生含濕量很大的石膏粉塵廢氣。該廢氣可采用干熱風對除塵設備預熱保溫和作為反吹清灰的袋式除塵器進行凈化。此外，可采用在較大顆粒狀態(tài)下進行炒制脫水，以減少炒制過程中的粉塵。

(3)石膏制模含塵廢氣治理石膏制模含塵廢氣中的粉塵都是半水石膏粉料，它遇水會凝結硬化。故該粉塵采用干式除塵器較為合適。炒制后的粉塵粒度很小，約96%的粒度小于5μm，故除塵設備不宜采用旋風除塵器，可采用脈沖袋式除塵器。